アルミ合金加熱真空吸着プラットフォーム

 

 

加熱真空吸着プラットフォームは、通常の加熱プラットフォームの派生であり、通常の加熱プラットフォームを基礎として改良されたものです。加熱真空吸着プラットフォームの基板は、主にアルミニウム合金の多孔質構造とハニカムセラミック構造で構成されています。前者はアルミニウム合金材料で作られており、表面が硬く酸化処理されており、平坦度が非常に高く、熱効率も高いです。後者は薄膜基板用に特別に開発されており、小孔の崩壊の欠陥を大幅に低減しています。

 

 

 

 

1.加熱テーブルの上面には長方形または顧客指定の真空円形穴が配置されており、直径サイズも顧客の要件に応じてカスタマイズできます。

2.真空引きには2つの方法があり、内部に真空発生器を装って真空負圧を実現します。外部に予約されたインターフェースは、真空機の設置のために顧客が購入します。

3. 高品質のデジタル温度制御機器を採用し、高精度、安全、シンプル、明確、便利な操作を実現

4.高品質のステンレス鋼製電気加熱コイルを採用し、メンテナンスが簡単で迅速、故障率が低い

5.内部の空洞は負圧状態にポンプすることができ、表面の小さな円形の穴は平らなフィルム製品を吸着する機能を有する。

6.マイクロコンピュータとマイクロコントローラによって制御され、自動的に一定温度を保ち、電子産業の技術を使用してシールとディスペンシング操作を行う

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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