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40Khz超音波による半導体チップへの広散乱フォトレジストコーティング超音波ノズル

40Khz超音波による半導体チップへの広散乱フォトレジストコーティング超音波ノズル

商品番号：FSW-4002-L
周波数: 40khz
電力: 1-15ワット
連続噴霧量(最大): 0.5-20ml/min
有効噴霧幅：40～80mm
スプレー均一性: 95% 以上
溶液粘度：30cps以下
迂回圧力:<0.05Mpa

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説明：

半導体チップ上の 40Khz 超音波広散乱フォトレジストコーティング超音波ノズルは、半導体チップ上のフォトレジストコーティングであり、フォトレジストが半導体チップ上にスプレーされます。散乱型超音波ノズルによるミストの回転散乱により、ウェハ面だけでなくウェハ微細構造の側壁や角部にも均一なフォトレジスト膜を形成できます。さらに、散乱超音波ノズルは、薄膜太陽電池コーティング、チタン酸カルシウム太陽電池コーティング、AR透過および反射膜コーティング、絶縁膜コーティング、超疎水性コーティングコーティング、PCBフラックスコーティングなどの用途にも使用できます。
半導体チップ上に大面積に超音波を散布するという要件を満たすために、FUNSONIC は散布ノズルを特別に設計して広い散布面積を実現し、チップ上にレジストを均一に塗布し、パターン転写の精度を確保しました。{0}