フォトレジストレジスト塗布用超音波霧化噴霧装置

 

 

 

フォトレジストレジスト塗布用超音波霧化スプレー装置 フォトレジストレジスト塗布は、スピンコートに代わる方法です。フォトレジスト溶液は、高周波超音波振動によってミクロンサイズの液体に霧化され、フォトレジスト液滴が基板表面に堆積して連続フォトレジスト膜を形成します。したがって、スプレーはあらゆる形状の基材の表面全体をカバーし、トポロジーに関係なく絶縁保護コーティングを提供できます。
フォトレジストをスプレーするには、フォトレジストの粘度が十分に低い必要があります。通常、数 cSt の粘度があるため、フォトレジストを溶剤で希釈する必要がある場合があります。フォトレジストを希釈すると、フォトレジストの老化プロセスが加速され、媒体中に粒子が形成される可能性があります。スプレーのもう 1 つの限界は、表面に落ちる液滴がランダムに分布するため、1 μ m より小さい薄膜を形成するのが難しいことです。連続した薄膜を形成するには、最小臨界フォトレジスト液滴密度を達成する必要があり、これにより最小膜厚と処理時間が増加します。

 

 

 

 

 

1. 半導体製造: チップ製造プロセス中に、超音波フォトレジスト スプレーによりフォトリソグラフィ プロセスの精度を向上させることができます。
2. マイクロナノ加工: 正確なフォトレジストコーティングは、マイクロ構造およびナノ構造の製造において極めて重要です。

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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