半導体フォトレジスト超音波リソグラフィー塗布装置

 

 

 

超音波スプレーは、フォトリソグラフィーウェハ処理におけるフォトレジストコーティングのための、シンプルで経済的かつ再現可能なプロセスです。 FUNSONICの半導体フォトレジスト超音波リソグラフィーコーティングシステムは、高度な積層技術を使用して、流量、コーティング速度、堆積量を細かく制御します。低速スプレー成形では、噴霧スプレーを正確で制御可能なパターンとして定義し、過剰スプレーを回避し、非常に薄く均一な層を生成します。
FUNSONIC の半導体フォトレジスト超音波リソグラフィー コーティング システムは、特に高アスペクト比の溝や V- 形状の溝構造の側壁の上部に沿って、より均一なコーティングを堆積する際に利点があります。遠心回転では、キャビティの底部に多量のフォトレジストを蓄積せずに、側壁に沿って均一なコーティングを堆積することができません。
 

 

 

 

 

1. さまざまな表面形状を均一にフィルムでカバーします。
2. 高アスペクト比の溝を均一にコーティングできます。
3.目詰まりしない霧化スプレー。
4. 均一性の高いシングルミクロンの薄膜を成膜可能。
5. 再現可能な成熟したスプレープロセス。

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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