散乱性超音波ノズルの導入

Oct 02, 2024

散乱ノズルは、低圧の空気/ガスを使用して、基質からの距離に応じて、最大9.8インチ（25センチ）できる各ノズルを備えた均一な広いスプレーパターンを生成します。空気の流れの速度は、製品または基板に対する霧化されたスプレーの影響が低いか、高い影響を与えるか、または高い影響を与えるために制御可能です。直列に接続された複数のノズルは、無限の幅を達成できます。散乱ノズルの設計は、細長いノズルの非常に繰り返しの広いパターンに使用されます。

散乱タイプの超音波ノズルは、サイクロンコーンスプレーを備えた超音波霧化ノズルです。超音波霧化ノズルテクノロジーを使用し、特別な渦フローチャネル設計を通じて、キャリアガスが均一な回転エアフローに変換されるため、液体霧の超音波原子化はサイクロンスプレーの形で分散し、スプレーを拡大します。アトマイザーの領域。超音波ノズルは、垂直または湾曲した表面やその他の角度基板に噴霧することもできます。

散乱性超音波ノズルの典型的な適用は、半導体チップでのフォトレジストコーティングであり、そこではフォトレジストが半導体チップに噴霧されます。散乱タイプの超音波ノズルによって放出されるミストの回転散乱により、均一なフォトレジストフィルムは、ウェーハ面だけでなく、ウェーハ微細構造の側壁と角にも形成できます。さらに、散乱型超音波ノズルは、薄膜太陽電池コーティング、カルシウムチタン酸太陽電池コーティング、AR伝播および反射フィルムコーティング、熱絶縁フィルムコーティング、超疎水性コーティングコーティング、PCBフラックスコーティングおよびその他のアプリケーションにも使用できます。

Ultrasonic Spray Coated Machine 4

原理：

超音波ノズルは、高周波音波を圧電トランスデューサーを介して機械エネルギーに変換し、機械的エネルギーを液体に変換します。この縦方向の上向きの振動は、超音波ノズルの先端にある液体フィルムに留められた波を生成します。これらの波の振幅は、発電機によって制御できます。これらの固定液体波は、超音波ノズルの上部から上向きに伸びることができ、液滴がノズルの霧化表面を離れると、マイクロメートルサイズの液滴の均一な細い霧に分解されます。

圧力ノズルとは異なり、超音波ノズルでは、高圧を使用して小さな穴に液体を強制してスプレーを生成しません。液体は、圧力なしで比較的大きなノズル中心を通って入り、ノズル内の超音波振動により霧化されます。

各超音波ノズルは、液滴の中央値を決定する特定の共振周波数で動作します。液滴サイズの違いは非常に小さく、その分布は数学的計算により特定の範囲内で正確に予測できます。たとえば、120 kHzのノズルは、水を噴霧するときに18ミクロンの液滴サイズの中央値を生成します。周波数が高いほど、中央値の減少が小さくなります。